Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China, beschäftigt sich mit der Forschung und Entwicklung, der Herstellung und dem Verkauf von High-End-Halbleiteranlagen und Pan-Halbleiteranlagen in China. Das Unternehmen bietet kapazitive Plasmaätzanlagen an, die zum Ätzen von dielektrischen Materialien wie Siliziumoxid, Siliziumnitrid und Filmschichten mit niedrigem Dielektrizitätskoeffizienten bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen verwendet werden; induktive Plasmaätzanlagen und Anlagen zum Ätzen von tiefem Silizium, die zum Ätzen von monokristallinem Silizium, polykristallinem Silizium und verschiedenen dielektrischen Materialien bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen verwendet werden; und MOCVD-Anlagen, die zum Ätzen von Durchgangslöchern und Gräben verwendet werden, wie CMOS-Bildsensoren, MEMS-Chips, 2. [...]