ASML: High-NA erreicht Massenproduktion

Symbolbild, KI-generiert

ASML bringt zehn High-NA-Systeme bei Kunden zum Einsatz, während UBS das Kursziel erhöht und geopolitische Risiken die Aktie belasten.

Auf einen Blick:
  • Zehn High-NA-Anlagen bereits installiert
  • 1,35 Millionen Wafer bislang belichtet
  • UBS hebt Kursziel auf 2.350 Euro
  • Asml-Aktie verliert trotz Fortschritten

ASML meldete auf der SEMICON Taiwan 2026, dass die neue High-NA-EUV-Technologie den Sprung von der Qualifikation in die tatsächliche Massenproduktion geschafft hat. Nach Unternehmensangaben laufen bereits zehn Systeme des Typs EXE:5200B bei vier Kunden, drei weitere befinden sich in der Auslieferung. Insgesamt wurden mit den Maschinen bislang 1,35 Millionen Wafer belichtet.

Die Anlagen erreichen laut ASML einen Durchsatz von 135 Wafern pro Stunde bei einer Verfügbarkeit von 84 Prozent – das Ziel liegt bei 93 Prozent. Bis 2029 soll der Durchsatz auf 180 Wafer pro Stunde steigen, im sogenannten AA-Modus sogar auf 210. Intel setzt die High-NA-Technologie bereits für die 18A-Fertigung seiner Core-Ultra-3-Prozessoren ein – ein wichtiges Signal, da High-NA als nächste Generation der Lithografie gilt und ASML hier technologisch konkurrenzlos ist.

UBS sieht attraktivstes Chancen-Risiko-Profil im Sektor

Passend zur Nachricht von der Produktionsreife hob die UBS am Dienstag ihr Kursziel für ASML von 2.250 auf 2.350 Euro an und bestätigte die Kaufempfehlung. Analyst Francois-Xavier Bouvignies bezeichnete ASML als das Papier mit dem attraktivsten Chancen-Risiko-Verhältnis im europäischen Halbleitersektor.

Die UBS liegt mit ihren Gewinnschätzungen für 2027 sieben Prozent über dem Marktkonsens, für 2028 sogar 20 Prozent darüber. Für das Jahr 2030 rechnet die Bank mit einem Gewinn je Aktie von 85 Euro gegenüber einem Konsens von 70 Euro – untermauert durch ein von der UBS erwartetes durchschnittliches Gewinnwachstum von 31 Prozent pro Jahr zwischen 2025 und 2030.

Die technologische Führungsposition, die sich in den High-NA-Zahlen zeigt, dürfte für die UBS ein zentrales Argument gewesen sein. Während Wettbewerber aus China laut einer UBS-Einschätzung beim Lithografie-Programm etwa auf dem Entwicklungsstand von ASML im Jahr 2004 stehen und binnen eines Jahrzehnts keine EUV-Alternative auf den Markt bringen dürften, baut ASML seinen Vorsprung mit der nächsten Gerätegeneration weiter aus.

Kurs reagiert verhalten auf gute Nachrichten

Trotz der positiven Unternehmensmeldung und der Kurszielanhebung gab die Asml-Aktie am Dienstag um 1,6 Prozent auf 1.437,60 Euro nach. Der Titel bewegt sich damit weiter unterhalb seines 50-Tage-Durchschnitts von 1.533,03 Euro, ein Abstand von 6,2 Prozent. Die Diskrepanz zwischen operativen Fortschritten und Kursentwicklung deutet darauf hin, dass Anleger derzeit stärker auf geopolitische Risiken achten als auf technologische Meilensteine.

Denn parallel zu den High-NA-Fortschritten verschärfen sich die Spannungen zwischen den USA und China im Halbleitersektor. Das US-Handelsministerium entzog Samsung und SK Hynix den sogenannten VEU-Status für ihre China-Werke, was den Import von Chipfertigungsanlagen dorthin erschwert.

Zudem untersucht die Trump-Administration nach Berichten einen angeblichen Verstoß gegen Exportkontrollen im Zusammenhang mit ASML-Lieferungen nach China – das Unternehmen selbst bestreitet, EUV-Maschinen nach China geliefert zu haben.

Politischer Besuch in Veldhoven

Für zusätzliche Aufmerksamkeit dürfte ein Termin am morgigen Mittwoch sorgen: Der französische Präsident Emmanuel Macron und der niederländische Ministerpräsident Rob Jetten besuchen gemeinsam den ASML-Standort in Veldhoven.

Geplant sind Gespräche über die europäische Techindustrie sowie eine Rundtischrunde mit weiteren Technologieunternehmen zu den Themen Künstliche Intelligenz und Chipindustrie – ein Termin, der die strategische Bedeutung von ASML für Europas Technologiesouveränität unterstreicht.

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