Asml greift tief in die Tasche, um seine Belegschaft an sich zu binden. Der niederländische Lithografie-Spezialist gewährt allen berechtigten Mitarbeitern eine einmalige bedingte Aktienzuteilung im Wert von 20.000 Euro, wenn sie dem Unternehmen von 2027 bis 2030 treu bleiben. Die Zuteilung erfolgt am 1. Januar 2027, unverfallbar wird sie erst am 1. Januar 2030. Erstmals schließt das Programm auch die Belegschaft in Taiwan ein. Bei rund 44.500 Beschäftigten weltweit summiert sich das Bindungspaket auf einen Gesamtwert von bis zu 900 Millionen Euro.
Der Schritt fällt in eine Phase, in der der gesamte Halbleitersektor um Fachkräfte ringt. Nach Einschätzung der Beratungsgesellschaft Deloitte werden bis 2030 weltweit mehr als eine Million zusätzliche Arbeitskräfte in der Chipbranche benötigt. Auch Samsung, SK Hynix und TSMC haben ihre Vergütungspakete zuletzt spürbar erhöht, um Ingenieure und Techniker zu halten. Mehr als die Hälfte der ASML-Belegschaft arbeitet in den Niederlanden, rund 8.500 Beschäftigte sitzen in den USA.
Starkes Quartal untermauert die Investition in Personal
Der Bindungsbonus kommt nicht von ungefähr: ASML meldete für das zweite Quartal 2026 einen Nettoumsatz von 9,326 Milliarden Euro, ein Plus von 21 Prozent gegenüber dem Vorjahr. Der Nettogewinn kletterte um 27 Prozent auf 2,918 Milliarden Euro, die Bruttomarge erreichte 54 Prozent. Auf dieser Basis hob das Unternehmen seine Jahresprognose für 2026 deutlich an – von zuvor 36 bis 40 Milliarden Euro auf nun 43 bis 45 Milliarden Euro Umsatz. Die EUV-Lithografiesysteme, das Herzstück des Geschäfts, sind bereits bis Ende 2027 ausverkauft, die Produktionskapazität für EUV-Anlagen soll 2027 um 30 Prozent steigen.
Die Börse honoriert diese Dynamik. Die Aktie legte zuletzt um 3,27 Prozent auf 1.577,60 Euro zu, nachdem sie den Vortag noch bei 1.527,60 Euro geschlossen hatte. Vom 52-Wochen-Hoch bei 1.748,00 Euro trennen das Papier aktuell noch knapp 9,75 Prozent – nach dem starken Anstieg der vergangenen zwölf Monate bleibt also weiterhin Luft nach oben.
Albany NanoTech erhält erstes High-NA-EUV-System in Nordamerika
Parallel zur Bindungsstrategie treibt ASML seine technologische Präsenz in den USA voran. Laut Reuters trafen am 21. Juli 2026 die ersten Komponenten einer High-NA-EUV-Maschine im Albany NanoTech Complex im US-Bundesstaat New York ein. Das Gerät kostet rund 400 Millionen US-Dollar und dient der Forschung an künftigen Chipdesigns. Die Anlage ist nach Angaben von Reuters die einzige ihrer Art in Nordamerika; NY Creates kooperiert dabei mit IBM, Micron und Tokyo Electron. Vollständig einsatzbereit soll das System bis Ende 2026 sein. Die Lieferkette hinter dieser Spitzentechnologie reicht weit über die Niederlande hinaus: Der deutsche Laserspezialist Trumpf liefert die Systeme, mit denen Zinn-Tröpfchen 50.000-mal pro Sekunde beschossen werden, um bei rund 500.000 Grad Plasma und damit das für EUV nötige 13,5-Nanometer-Licht zu erzeugen. Carl Zeiss steuert die Spiegeloptik bei – Technologie, die ursprünglich für Weltraumteleskope entwickelt wurde und laut eigenen Angaben 38 Prozent der Zeiss-Umsätze im Halbleitergeschäft ausmachte.
Analysten und Investoren mit unterschiedlichem Fokus
Am Kapitalmarkt bleibt die Stimmung überwiegend konstruktiv. JPMorgan hob sein Kursziel für ASML zuletzt auf 2.400 US-Dollar an, der breitere Analystenkonsens bewertet die Aktie mit „Moderate Buy“. Unter den institutionellen Investoren zeigt sich allerdings ein gemischtes Bild: Der Vermögensverwalter DJE Kapital AG reduzierte seine Position im ersten Quartal 2026 um 44,4 Prozent auf noch 66.357 Aktien. Gleichzeitig bauten andere Adressen ihre Bestände aus – Wealthfront Advisers stockte um 143,4 Prozent auf, Leith Wheeler Investment Counsel eröffnete eine komplett neue Position.
Medienberichten zufolge rückt ASML durch die anhaltende Nachfrage nach KI-Chips zunehmend in die Nähe einer Marktbewertung von einer Billion US-Dollar und könnte damit zum ersten Unternehmen dieser Größenordnung in Europa aufsteigen. Als Risiken gelten dabei US-Exportbeschränkungen gegenüber China sowie ein möglicher Rückgang der Investitionen in KI-Infrastruktur. Bemerkenswert ist zudem, dass chinesische Chiphersteller wie SMIC mit ihrem N+3-Fertigungsknoten inzwischen ohne EUV-Lithografie auskommen und dabei eine höhere Transistordichte erreichen als manche etablierte Konkurrenzverfahren – ein Hinweis darauf, dass der technologische Wettlauf auch abseits von ASMLs Kerntechnologie an Fahrt gewinnt.
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